浙江省阻尼光学平台-志城精研公司

随着---的设备和工艺的发展，使纳米量级的测量成为可能。例如，变相光学干涉仪测量物体的表面粗糙度，目前可以达到1纳米的分辨率。在半导体领域，已生产出线宽在亚微米量级的集成电路，提出测量准确率小于50纳米的精度要求。为了提高旋转台系统的稳定性，阻尼光学平台，我们可以将系统与振源隔离。外界的振源来源很多，比如地面的自振，各种声音等等。但是影响z大的是各种低频的振源，主要集中在10～100hz频率内。将系统与这些振源隔离可以有效的提高系统的稳定性。采用大阻尼的气囊支撑方式可以较好的将系统与振源隔离。

我们知道，光学平台台面，若为达到高平面度，通常需要反复磨削，在加工过程中，多次磨削容易使材料产生形变，为了减少形变，通常要加厚台面，但我们通过振动恢复时间的说明已经知道，台面加厚增加，平台的振动恢复时间往往---（甚至几倍）增加，在很多精密光学实验中，这是不可接受的。 对于平台上的光学元件来说，平面度引起的高度差，通常可以忽略不计，若确有---考虑高度差，则完全可以通过卓立精密调整的位移台来实现。综上所述，光学平台的平面度，同光学平台的隔振性能不相关，只能做为光学平台的一个辅助指标，供参考。